1月20日快科技消息，全球知名光刻機(jī)巨頭ASML發(fā)布2021全年財(cái)報(bào)，數(shù)據(jù)顯示，公司全年?duì)I收達(dá)到186.11億歐元，得益于良好的市場環(huán)境，相比去年同期，營收增長33%。
針對新一代NA0.55高數(shù)值孔徑的EUV光刻機(jī)，ASML也官宣首位購買客戶，將由英特爾獲得。
英特爾搶購新款EUV光刻機(jī)
據(jù)筆者了解到，ASML新一代的NA 0.55光刻機(jī)產(chǎn)品分辨率達(dá)到8納米，而臺積電和三星使用的EUV光刻機(jī)產(chǎn)品的分辨率只有13納米，在生產(chǎn)先進(jìn)芯片的過程中，新款光刻機(jī)的圖形曝光的成本更低、效率更高。
但需要明白的是，新一代NA 0.55光刻機(jī)造價(jià)成本也更高，達(dá)到3億美元，約合人民幣19億元，而目前已經(jīng)出貨的EUV光刻機(jī)設(shè)備也還有1.5億美元而已。
盡管ASML最新型號EUV光刻機(jī)還未投產(chǎn)，但英特爾已經(jīng)打錢預(yù)定，根據(jù)ASML官方網(wǎng)站顯示的消息，英特爾是業(yè)內(nèi)唯一一家訂購NA 0.55光刻機(jī)的企業(yè)。
事實(shí)上，英特爾成功搶購首臺新款EUV光刻機(jī)并不意外，因?yàn)樵缭?021年7月份時(shí)，英特爾方面便透露，將會獲得業(yè)界第一臺最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)設(shè)備。
翻身之戰(zhàn)奠基礎(chǔ)
顯而易見，英特爾此次搶購ASML新款光刻機(jī)設(shè)備，也是為了搶奪最強(qiáng)芯片制造企業(yè)的地位。在過去很長一段時(shí)間里，因?yàn)橛⑻貭柕臎Q策失誤，其工藝技術(shù)一直停留在成熟工藝節(jié)點(diǎn)，尤其是在2019年，英特爾量產(chǎn)10nm，臺積電和三星已經(jīng)開始試產(chǎn)5nm，而英特爾的7nm還在規(guī)劃當(dāng)中。
如今，三星和臺積電的工藝技術(shù)已經(jīng)來到4nm節(jié)點(diǎn)，更為先進(jìn)的3nm技術(shù)也將在今年下半年量產(chǎn)，這無疑進(jìn)一步拉開了與英特爾之間的距離。
為此，在2021年，英特爾便制定了IMD2.0計(jì)劃，復(fù)蘇芯片代工業(yè)務(wù)。但制程工藝的落后，對于英特爾重返芯片代工領(lǐng)域并不利，無法得到客戶的認(rèn)可，而且，在光刻機(jī)設(shè)備方面也不占優(yōu)勢。
根據(jù)筆者了解，在半導(dǎo)體工藝正式進(jìn)入7nm節(jié)點(diǎn)后，ASML研發(fā)的EUV光刻機(jī)產(chǎn)能幾乎被臺積電和三星做包攬，尤其是臺積電，手中掌握的光刻機(jī)設(shè)備眾多。
所以，英特爾在全球范圍內(nèi)開始瘋狂建立芯片工廠，提升產(chǎn)能，拿出數(shù)千億美元的資金用于技術(shù)研發(fā)。
按照英特爾制定的計(jì)劃，要在2024年實(shí)現(xiàn)20A工藝的量產(chǎn)，該工藝相當(dāng)于臺積電2nm工藝。
毫無疑問，無論是提升芯片產(chǎn)能，還是實(shí)現(xiàn)20A工藝技術(shù)的量產(chǎn)，必須要依賴先進(jìn)的EUV光刻機(jī)設(shè)備。
正因如此，英特爾才會率先搶購新款EUV光刻機(jī)設(shè)備，為未來超越臺積電和三星做準(zhǔn)備，建立光刻機(jī)方面的優(yōu)勢。
臺積電逐漸“失寵”
按照以往的慣例，臺積電作為ASML最大的客戶，新一代的EUV光刻機(jī)的訂單應(yīng)該會給到臺積電，但從上述來看，結(jié)果卻恰恰相反，被英特爾捷足先登。
這將會對臺積電造成什么影響？
在筆者看來，臺積電無法獲得新一代EUV光刻機(jī)影響還是非常大，要知道，越先進(jìn)的制程工藝，對于EUV光刻機(jī)的技術(shù)的要求越高，而ASML的新一代EUV光刻機(jī)更是生產(chǎn)2nm及以下工藝節(jié)點(diǎn)芯片的關(guān)鍵設(shè)備。
換言之，如果沒有新款EUV光刻機(jī)設(shè)備，將會影響臺積電在先進(jìn)工藝技術(shù)方面的研發(fā)和量產(chǎn)進(jìn)度。
并且，目前臺積電也在不斷擴(kuò)建產(chǎn)能，對于光刻機(jī)的需求也在不斷攀升。
寫到最后
對于臺積電而言，不僅要面臨三星的威脅，而且，英特爾的威脅也不容忽視。不難預(yù)見，未來的芯片市場，臺積電、三星以及英特爾之間的競爭將愈發(fā)激烈。
