三星電子或在5月20日向拜登展示“世界首款”3nm芯片工藝技術
作者 | 郵電設計技術2022-05-19
據韓聯社5月19日報道，三星電子預計將在5月20日向參觀其平澤半導體工廠的美國總統拜登介紹其“世界首創的”3 納米下一代半導體工藝技術。
業內人士19日聲稱：三星電子有望向拜登介紹“全球首款”基于下一代GAA（Gate-All-Around）技術的3納米半導體產品原型，該產品預計即將開始量產。
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