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據(jù)telecompaper網(wǎng)6月16日報道，LamResearch宣布，韓國芯片制造商SKHynix已選擇Lam的創(chuàng)新干式抗蝕劑制造技術作為先進DRAM芯片生產(chǎn)中兩個關鍵工藝步驟的記錄開發(fā)工具。

干式抗蝕劑提高了極紫外(EUV)光刻技術的分辨率、生產(chǎn)力和良品率，這是一種用于半導體生產(chǎn)的關鍵技術。Lam干式抗蝕劑產(chǎn)品組副總裁兼總經(jīng)理RichardWise說：“Lam的干式抗蝕技術改變了芯片制造業(yè)游戲規(guī)則。通過在材料層面進行創(chuàng)新解決了EUV光刻技術的最大挑戰(zhàn)，為先進的內存和邏輯實現(xiàn)了具有成本效益的擴展。“

全球第二大內存芯片制造商SKHynix打算使用Lam的干式抗蝕劑底層和干式開發(fā)工藝進行先進的DRAM圖案化制作。