國內半導體行業存在兩個最嚴重的問題，其一就是沒有制造高端芯片的光刻機，其二就是沒有用于設計先進制程的EDA工業軟件，也就是說在芯片行業最核心的硬件和軟件，我們都沒有，我們有的只是部分芯片設計能力和芯片封裝的能力，不得不說，這是最為嚴重的兩個問題，想要解決這兩個問題，我們有三條路可以走，一就是在成熟芯片上實現自給自足，二就是通過借力來實現高端芯片的量產，三就是徹底解決光刻機和工業軟件的問題，那么今天我們就主要聊聊光刻機的問題，從光刻機的角度來看看國內半導體行業發展現狀。
光刻機是什么時候成為了國人關注的焦點？其實就是美國禁止荷蘭阿斯麥出貨之后，不少國人都對此感到憤怒不已，也正是因為如此，國內出現了大量關注光刻機發展的群眾，眾所周知，阿斯麥是全球最大的半導體設備制造商，特別是用于制造先進制程芯片的關鍵設備，全世界也只有阿斯麥研發出來了，美國不允許荷蘭出售EUV光刻機給中國，就是害怕中國在芯片領域超越美國，也正是因為如此，我國為了解決這個問題，更是投入巨額資金支持中科院研發光刻機，國內芯片企業也不甘落后，全力研發可以替代EUV光刻機的光刻設備。
那么現在國內光刻機究竟發展到哪一步了呢？一家中國半導體公司暴露了其真相，我們都知道，國產光刻機最高光的時刻，那就是富士康訂購46臺國產光刻機，這也一度讓不少國人感到興奮不已，因為以前談到光刻機，那都是購買荷蘭阿斯麥的光刻機，可是富士康偏偏采購了46臺國產光刻機，這也讓不少人以為國產光刻機取得重大突破，難道說已經可以和阿斯麥一較高下了嗎？然而就在我們高興沒有多久，一家中國半導體公司徹底暴露了其真相。
去年一家國內芯片廠商，也就是積塔半導體公布了設備采購的最終結果，那就是采購33臺設備，其中有三十臺來自中國企業，3臺則是阿斯麥的光刻機訂單，其中兩臺則是i-line光刻機，另外一臺則是Krf光刻機，也就是說國產光刻機一個也沒有，并沒有成為積塔半導體的選擇，那么這究竟是為什么呢？難道說我們比不過阿斯麥的EUV光刻機嗎？就連普通光刻機都比不過嗎？不少網友對此表示非常失望，甚至有人說哪怕技術還不如阿斯麥，我們也應該使用國產光刻機。
不得不說，支持國貨固然重要，但是也要認清現實，特別是積塔半導體采購的設備，并非全是光刻機設備，其中還有蝕刻、拋光、清洗等設備，雖然我們在光刻機領域不如國外，但是無論是蝕刻還是拋光又或是清洗等國產設備，我們都已經達到國際領先水平，也正是因為如此，積塔半導體采購的設備就有30臺來自中國企業，這不也是支持國產、支持國貨嗎？就是因為現在在很多人眼里只有國產光刻機，他們一旦發現我們自己的企業，并沒有使用自己人的產品，就會在網絡上滿嘴惡評，其實真的沒有必要，因為我們在芯片設備領域并不是一無是處。
其實早從2020年在光刻機領域加大投入以后，2021年我們就已經成功研制出，國產第一臺28nm的immersion式光刻機，2022年國產14nm光刻機的消息也徹底曝光，特別是去年9月份，上海更是發布了一則重要消息，那就是我國已經可以實現14nm芯片的生產，10月份上海經信委更是正式發布公告，宣稱14nm國產芯片已全面批量生產，特別是在美國持續對荷蘭施壓的情況下，中國科學院合肥物質科學研究院，更是已經成功研制出了10nm級別的光刻機，可以說國內光刻機發展的速度越來越快了，相信過不了多久就會追趕國外技術。
比如現在已經有科研機構在研發5nm光刻機，更是有些國內頂尖科技企業和大學，都紛紛開始研發3nm和2nm的光刻機設備，所以話不要說得太早，我們應該在這個關鍵時期認清現實，那就是我們雖然與國外技術還有著一段距離，但是我們追趕的速度是比國外研發的速度還要更快，這就好比兩個運動員比賽，其中一個率先領跑，已經把另一個甩得老遠，后者雖然比前者要跑得更快，但是想要超越前者，還需要一定的時間。
也許這個時候又有人要說吹牛了，其實這不僅不是吹牛，反而是真正的現實，同樣就好比兩個運動員，一個是我們國家的運動員，另一個是國外的運動員，由于我們起步較晚，所以一直處于落后的地步，就如同我們在光刻機領域的研發一樣，越是在這個關鍵時刻，我們越應該鼓勵運動員加油，怎么看好國產光刻機的發展，反而變成吹牛了呢？為何不能把它當成一種鼓勵呢？不得不說，國內半導體行業的發展，雖然還處于落后的階段，但是我們的思想不能落后，我們雖然不能為國家做貢獻，但是至少我們可以給國家加油，給中國的半導體事業加油。
